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11月5日至10日,第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上,一系列重磅科技亮相。上海微电子装备集团(简称“SMEE”)携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800(模型)亮相中国馆,展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。上证报记者宋薇萍摄SMEE表示,本次展出的模型采用透明剖视设计,直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。

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